产品列表PRODUCTS LIST

首页 > 技术与支持 > Alicat助推Inchfab纳米级制造系统
Alicat助推Inchfab纳米级制造系统
点击次数:103 发布时间:2020-11-11

Alicat助推Inchfab纳米级制造系统

在当今连接日益紧密的世界中,对超出常规电子产品的新型微米和纳米级设备的需求不断增长。这些器件通过IC制造工具制造时往往需采用非标准工艺, 而依赖于微米和纳米制造技术设备的生产非常昂贵且耗时。

 

在过去的几年中,Inchfab一直致力于开发超低成本微细加工和纳米加工设备的完整平台,更经济地生产电子、机械、化学和生物设备。Inchfab将先进的处理能力与大尺寸的基板分离,Inchfab已经证明,使用较小的基板也可以提高性能,并优于大尺寸基板。

 

 

 

遇到的问题

INCHFBA

 

在基板制造过程中,所需的薄膜材料需用化学气相淀积来制备。化学气相淀积是把各成分元素以及掺杂剂都以气体形式导入反应炉,在晶圆表面发生化学反应,从而生成所需的固态薄膜并淀积在其表面。

 

在化学气相沉积中,真空是必须的,因为在有大气气体存在的情况下,化学反应是不起作用的。

 

研发意味着测试,允许障碍和反应性气体的新配方,可能多次改变流量比和气体,且所有的必须同时保持准确,气体流量控制的准确性不言而喻。

 

 

解决方案

ALICAT

 

Alicat为帮助Inchfab克服这一挑战提供了极端的准确性、响应能力和控制气体流量需求。Alicat半导体专用压力控制器和MFC系列质量流量控制器为Inchfab提供了一个性能、可靠性和价格之间无需折衷的解决方案,这使其成为Inchfab系统的选择。

 

Alicat半导体MCE系列真空气体质量流量控制器采用了层流差压(DP)技术,可同时测量98种气体的质量流量、体积流量、绝对压力和温度,并进行全温度和压力补偿。MCE系列控制器低至0-0.5sccm、高至0-20 slpm、控制响应时间为50-100毫秒。Alicat质量流量控制器以惊人的准确度和响应时间大大提高实验质量。

Inchfab 化学气相淀积系统中使用Alicat控制器的流程图

Alicat很高兴能成为这个重要的挑战的一部分,Alicat的质量流量控制器适应性使得化学气相沉积越来越好,助推许多未实现的技术早日实现。

 想获得与Inchfab一样可靠的质量流量计和控制器,请即刻与我们联系吧!

联系人
在线客服
用心服务 成就你我