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在当今连接日益紧密的世界中，对超出常规电子产品的新型微米和纳米级设备的需求不断增长。这些器件通过IC制造工具制造时往往需采用非标准工艺， 而依赖于微米和纳米制造技术设备的生产非常昂贵且耗时。
在过去的几年中，Inchfab一直致力于开发超低成本微细加工和纳米加工设备的完整平台，更经济地生产电子、机械、化学和生物设备。Inchfab将先进的处理能力与大尺寸的基板分离，Inchfab已经证明，使用较小的基板也可以提高性能，并优于大尺寸基板。
遇到的问题
INCHFBA
在基板制造过程中，所需的薄膜材料需用化学气相淀积来制备。化学气相淀积是把各成分元素以及掺杂剂都以气体形式导入反应炉，在晶圆表面发生化学反应，从而生成所需的固态薄膜并淀积在其表面。
在化学气相沉积中，真空是必须的，因为在有大气气体存在的情况下，化学反应是不起作用的。
研发意味着测试，允许障碍和反应性气体的新配方，可能多次改变流量比和气体，且所有的必须同时保持准确，气体流量控制的准确性不言而喻。
解决方案
ALICAT
Alicat为帮助Inchfab克服这一挑战提供了的准确性、响应能力和控制气体流量需求。Alicat半导体压力控制器和MFC系列质量流量控制器为Inchfab提供了一个性能、可靠性和价格之间无需折衷的解决方案，这使其成为Inchfab系统的选择。
Alicat半导体MCE系列真空气体质量流量控制器采用了层流差压(DP)技术，可同时测量98种气体的质量流量、体积流量、压力和温度，并进行全温度和压力补偿。MCE系列控制器低至0-0.5sccm、高至0-20 slpm、控制响应时间为50-100毫秒。Alicat质量流量控制器以惊人的准确度和响应时间大大提高实验质量。
Inchfab 化学气相淀积系统中使用Alicat控制器的流程图
Alicat很高兴能成为这个重要的挑战的一部分，Alicat的质量流量控制器适应性使得化学气相沉积越来越好，助推许多未实现的技术早日实现。
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